东莞零配件低摩擦DLC涂层

中山类金刚石DLC涂层技术是一种应用于工模具表面改性领域的专业技术。DLC涂层的工业化生产开始于20世纪末。与应用于模具上的硬质涂层(如TiN,TiAlN,CrN,TiCN等)相比是一种崭新的涂层技术。在半导体封装、管脚切割和成形制造过程中，高精度的模具是确保产品品质的关键。模具表面质量又决定了产品优良率、生产效率和产品电学性能等。所以，应用于半导体封装行业的模具不但要求高精度，同时也要求模具刃口件向表面低摩擦因数和高硬度的方向发展，而运用等离子体DLC涂层技术的涂层是这一问题的主要解决方案。DLC涂层具有高硬度、优良的耐磨性和抗腐蚀性等优点。东莞零配件低摩擦DLC涂层

中山金刚石DLC涂层工艺流程：1、工件基体处理。这一步是比较重要的，将工件抛光到小于Ra0.2um,涂覆处理后的工件才可得到满意的表面质量，这对成形一些具有光学性能要求的零件是非常重要的，类似成形光学镜头和成形LED零件等。操作的时候需要注意基体表面处理不能留有死角，这影响到膜层是否能与基体牢固地结合。2、充分清洗。将要涂覆的工件进行充分清洗，涂覆的母材、质量水平和几何形状决定了清洗的工艺。工件装在设定的夹具上，夹具是在使腔体装载尺寸优化和保证涂覆均匀的基础上设计的。清洗方法为真空室抽真空至10-6托(高真空)来排除系统中的任何污染物，真空室中通入惰性气体并使其离子化，导致产生辉光放电(等离子体)，这是气体清洗阶段使零件做好金属沉淀准备。3、金属沉淀。在用于沉淀的固体金属上（指靶材）加载高电流、低电压电弧，金属被蒸发并且瞬间离子化，属离子在高能量的作用下通过惰性气体或活性气体进入腔体并沉淀在工件上。在金属沉淀过程中蒸发了的金属(靶材)保持不变。在激i活的沉淀过程中，改变气体的体积或种类将会改变膜层的性质，形成像碳化物、氮化物或氧化物的陶瓷。同样，通过改变靶材的材质也可以产生不同的膜层。广州DLC薄膜DLC涂层哪家好利晟纳米类金刚石DLC涂层的制备方法。

应用于活塞环上的中山DLC主要采用磁控溅射技术和离子束技术多层复合沉积而成。等离子体源在相应的电源和反应气体的共同作用下，将原材料变成大量微观带电的等离子体。这些提供涂层主要成分的等离子体随着镀膜设备内产生的电磁场的分布，有规律地做定向运动，Z终在需要沉积的工件位置，逐渐形成宏观可见的、具有一定厚度的涂层。其中，磁控溅射技术沉积速率高，稳定性高，均匀性好，结合力强，需要沉积的材料只要制作成相应的块状靶材即可安装在靶座上；在涂层沉积过程中，该技术负责沉积与基材接触的底层以及介于底层和Z外层的功能层之间的过渡层。离子束技术主要用来沉积功能层，含碳的反应气体在离子束源产生的强电场作用下被电离成等离子体并沉积到上述过渡层上。因为是气体作为碳元素的来源，所以沉积出的涂层结构更为致密，表面更为光滑和黑亮。过渡层的存在能够有效地提高纳米硬度范围，从而能够实现功能层厚度的增加，并且可以有效缓冲后功能层带来的巨大应力，提高复合薄膜与基材的结合力。同时，由于过渡层的表面微观结构良好，不会破坏DLC自身的粗糙度，从而保证复合涂层具有较低的摩擦系数

DLC涂层加工是类金刚石涂层加工。主要有两种方式实现，一种是CVD，化学气相沉积，还有一种是PVD，物LI气相沉积，IP的意思是Ionplating，是离子镀，是PVD技术的一种。DLC一般是黑色的，非常的耐磨、防滑，IP涂层就是离子镀涂层，用来做DLC的也比较多。类金刚石涂层或简称DLC涂层是一种非晶态膜，基本上可分为含氢类金刚石（a-C:H）涂层和无氢类金刚石涂层两种。含氢DLC涂层中的氢含量在20at.%-50at.%之间，sp3成分小于70%。无氢DLC涂层中常见的是四面体非晶碳(ta-C)膜。ta-C涂层中以sp3键为主，sp3含量一般高于70%。类金刚石涂层或简称DLC涂层是含有金刚石结构（sp3键）和石墨结构（sp2键）的亚稳非晶态物质，碳原子主要以sp3和sp2杂化键结合。DLC涂层加工的应用领域。

中山DLC涂层在模具上的应用：①冲压成形模具：凸模、凹模、精密冲裁、压印成形零件等。②注塑成形模具：模腔和型芯、顶杆及各类镶件等。③半导体模具：引脚成形模具的刀口件、封装模具的成形镶件和镶块等。④其他零部件：轴类、齿轮、轴承、凸轮和从动滚轮等。DLC涂层具有高硬度、表面平滑、低磨擦系数、易脱模、耐磨耗、耐酸碱、热导性佳及低温制程等特性。材料的高压冲刷与颗粒很难对其造成损伤，因而远比其它材料更适合应用在模具的保护上，大幅度地增加模具使用寿命。DLC涂层在光学领域中的应用。佛山五金件低温DLC涂层应用

类金刚石DLC涂层是一种采用金刚石类材料制成的薄膜涂层，具有极高的硬度和耐磨性。东莞零配件低摩擦DLC涂层

反响气源的组成对中山DLC涂层结构影响很大，特别是对DLC涂层的氢气结构有重要影响。首先，原子氢对石墨以及其他非金刚石相碳具有择优刻蚀的效果。堆积金刚石薄膜过程中，在没有超平衡氢原子参与时，甲烷分解为石墨和金刚石键价结构的速率是处于同一个数量级的。可是当甲烷和氢气的混合气体中引入超平衡原子氢后，甲烷的热分解效果和原子氢的刻蚀效果加在一起，就出现了金刚石的成长速率为正，石墨的成长速率为负的情况，即原子氢刻蚀石墨的速度远高于刻蚀金刚石的速度。因而，当反响气源中引入原子氢有利于添加DLC膜中sp3相含量，安稳随机共价键网络，阻止其转化为石墨相。其次，反响气源中氢气比例越高，DLC膜中含氢量越高，越有利于完成超i低突冲系数。经过改变DLC膜中的氢含量，突冲因数可改变几个数量级。东莞零配件低摩擦DLC涂层