泰州镜面光学模具研磨的行业须知

泰州镜面光学模具研磨的行业须知, 光学模具研磨抛光对于模具抛光企业是具有一定的要求，如果模具抛光企业相关抛光的标准不能够达到行业的标准是不能够去做这一项工作的，同理如果模具厂将一件光学模具交给一家资历不足的模具抛光厂来进行模具抛光，光学模具研磨，那么模具抛光之后的效果是什么样子的就可想而知了，同时部分的光学模具研磨抛光还需要进口的机器设备来进行抛光。那么我们应该怎么样选择一下好的模具抛光企业呢？ （1）好的光学模具研磨抛光企业需要有一台或者是多台的抛光器械，像是kizi这种大品牌的光学模具研磨抛光设备，或者是其他的欧美进口设备只有这种设备才能够将模具抛光到一个好的水准 （2）要想模具抛光得好，模具抛光的企业还需要拥有一批技术经验丰富的技术师傅。一批技术经验丰富的模具省模抛光师傅是一个模具省模抛光企业比较好的保证，如果这个都没有就谈不上达到一个好的标准，因此选择模具省模抛光企业更得看他们的技术

本锋是以精细研磨制造为**的模具企业，致力于为客户制造高标准要求的镜面研磨零件。 2003年成立至今，积累了丰富的研磨制造技术，建立了完美的精密研磨工艺链条。尺寸公差从0.005mm到如今的500nm；表面粗糙度从Ra0.2μm到现在的Rz0.08μm镜面水准。从普通模具钢加工到特殊不锈钢与钨钢混合料，陶瓷，铝材等，都在精确地掌控之中。      公司制造能力满足于模具产业的同时，积极引进高精度研磨设备：德国JUNG磨床，日本长濑NAGASE，日本冈本OKAmoto，住友sumitome等高精度设备.以便能满足新能源锂电涂布设备**零件的制造以及光学，医疗，精密测量零件的研磨等等。      本锋占70%的技术人员均是从事8年以上的制造工匠。他们在工作中精益求精，一丝不苟，不断积累，高度专注。把零件研磨技术达到***完美，能制造出高于机床精度的完美产品。本锋团队日积月累，不断挑战自我。为能满足客户解决制造难题不懈奋斗终生。

一般光学眼镜模具抛光的省模还有抛光应该是分开到两个工作车间来完成工作的。也就是一个车间是用于对模具进行粗磨的这一个工作，另一个车间则是用来将粗磨好的模具进行更为精细的抛光加工。 在做光学模具抛光的时候要注意上一道工作所残留的抛光出来的灰尘还有砂粒，要清洗好模具的表面达到干净整洁才可以进行下一道的工序，并且在粗磨之后进行好整个模具表面的清洁整理，方便之后的抛光 一般光学眼镜模具镜面抛光都是需要用到从1200#的砂纸进行简单的粗磨之后，在不断往下一级逐级递增的砂纸进行省模抛光，待模具省模完成之后需要将模具移到专门的抛光车间进行抛光作业，是为了确保空气之中的灰尘不会粘在模具表面之上。 当然如果想要做到更为精密的光学研究级别的模具抛光，则需要将模具送到研究室采用需要在显微镜之下进行抛光。那么在光学模具抛光完成之后就需要对模具表面进行防尘保护的工作。在模具抛光之后需要对模具表面喷涂**的模具防锈涂层，保证模具的抛光质量

泰州镜面光学模具研磨的行业须知, 目前，国内也有不少公司自主研发设计涂布模头，优化技术都可以得到认可，其设计优化包括： （1）涂布模头内部流道设计，比如梯度式、衣架式、单腔式和双腔式等料槽结构。目标就是维持涂液在模具内的流动速度，不产生静止区域或沉降等问题，从而确保模头狭缝出口速度均匀保证涂层的均匀性。（后面再撰文详细总结） （2）进料位置优化设计，比如模头下部进料，模头侧面进料等，改变流体流动状态确保模头狭缝出口速度均匀。 （3）垫片结构的优化设计。

涂布操作窗口是狭缝涂布一个重要的工艺参数，在实际生产中，当工艺参数超出操作窗口的范围时，涂布缺点便会产生。而涂布膜出现的缺点种类众多，原因各异，本文主要针对锂离子电池狭缝挤压涂布，就几种常见缺点进行分析，并给出相应解决方案。常见缺点有点缺点、边缘效应、锯齿缺点等。 1 点状缺点 1.1 气孔：一是气泡产生(搅拌过程、输运过程、涂布过程); 气泡产生的***缺点比较容易理解，湿膜中的气泡从内层向膜表面迁移，在膜表面破裂形成***缺点。气泡主要来自搅拌、涂液输运以及涂布过程。 1.2 异物缩孔：各种颗粒(灰尘、油污、金属颗粒等) 产生。外来颗粒的存在导致颗粒表面处的湿膜存在低表面张力区域，液膜向颗粒周围发射状迁移，形成缩孔点状缺点，如图4所示。预防措施主要有:涂液过滤除铁、环境粉尘控制、基材表面清洁 1.3 团聚体颗粒凸起：如果浆料搅拌不均匀，导电剂没有分散开，形成团聚体时就会产生此类缺点，极片表面出现大面积的凸起，放大这些地方观察，发现这是导电剂的团聚体。这种缺点主要还是改善浆料搅拌工艺来消除。

泰州镜面光学模具研磨的行业须知, 日前最常见的一种比较经济的氧化剂是H2O2。 H2O2虽然能用于多种材料的化学机械抛光，但由于其化学性质不稳定，容易发生分解，从而影响抛光效果。为了增强H2O2的稳定性，通常会向抛光液中添加一些稳定剂，以防比其分解。例如在铜及氮化钦的抛光过程中，通常添加5%(重量百分比)的H3P0、作为稳定剂，抛光效率***提高。 　　氧化剂的浓度会对抛光效果产生影响。在铝抛光过程中，随着氧化剂(H2O2)浓度的增加，氧化层形成速度加快且被及时去除，抛光效率提高，表而刮痕尺寸减小;但当氧化剂浓度增加到一定值时候，抛光效率反而降低，表而刮痕尺寸增人，其原因是化学反应速度人于机械去除速度，氧化层不能及时被去除，阻碍了氧化反应的进行，机械去除也使得表而容易产生较人尺寸的刮痕，所以氧化剂(H2O2)浓度应控制在1 ~ 3%(体积百分比)。而在铜抛光过程中，抛光液中氧化剂(H2O2)的浓度比较好控制在7%以下。 　　此外，氧化剂的浓度也会影响抛光液中磨粒(特别是金属磨粒)的平均尺寸。随着氧化剂浓度的增加，磨粒的平均尺寸会减小，其原因是磨粒表而经氧化反应形成的氧化层，一部分溶解，另外一部分则被抛光垫去除。

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